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產(chǎn)品展示/ Product display
vaisala半導體折光儀 PR-33-S探頭,可監(jiān)測潔凈室環(huán)境和集成工藝工具(混合、清潔、蝕刻和 CMP)中晶圓廠化學品的濃度。
聯(lián)系電話:18510339394
vaisala半導體折光儀 PR-33-S探頭
緊湊型折光儀,采用超純改性PTFE流通池主體,適用于半導體液體化學過程。通過 1/4 — 1 英寸的立柱或擴口接頭連接
到工藝。
vaisala K-PATENTS® 半導體折光儀 PR-33-S 可監(jiān)測潔凈室環(huán)境和集成工藝工具(混合、清潔、蝕刻和 CMP)中晶
圓廠化學品的濃度。
設計
PR-33-S 由一個超純的改性 PTFE 流通池主體和一根以太網(wǎng)電纜組成,任何標準 PoE(以太網(wǎng)供電)交換機都可以使用
該電纜將電力傳輸?shù)絺鞲衅鞑?shù)據(jù)傳輸?shù)接嬎銠C。PR-33-S 實時監(jiān)測化學品濃度,并在化學品超出規(guī)格時提供以太網(wǎng)
輸出信號和即時反饋。例如,可以配置低濃度和高濃度警報來控制和延長浴槽壽命。濃度是通過對溶液的折射率nD和
溫度進行光學測量來確定的。
PR-33-S 直接與喇叭口或支柱配件在線安裝。PR-33-S 結(jié)構緊湊,不含金屬,占用空間很小。
關鍵要素
N.I.S.T. 可溯源校準,使用標準 RI 液體進行驗證,并經(jīng)過驗證的程序。
獲得CORE光學器件(美國號)US6067151)。
通過以太網(wǎng)的遠程面板,用于數(shù)據(jù)記錄和遠程操作。
通信由標準 UDP/IP 協(xié)議構建。
過程溫度范圍:-20°C – 85°C (-4°F – 185°F)。
通過內(nèi)置 Pt1000 和自動數(shù)字溫度補償實現(xiàn)快速過程溫度測量。
主要優(yōu)勢
全數(shù)字化設備
vaisala K-PATENTS® 半導體折光儀 PR-33-S 用于過程控制和監(jiān)測,并提供連續(xù)的以太網(wǎng)輸出信號。設計緊湊,
設備直接在線安裝。
在整個范圍內(nèi)進行準確穩(wěn)定的測量
折射率 nD 1.3200–1.5300 的全測量范圍,相當于 0-100% 重量。可選范圍 nD 1.2600–1.4700 用于強 HF。
典型精度 R.I.+ 0.0002,通常相當于 0.1%(重量),例如水中的 HCl。
測量不受 PPM 范圍內(nèi)的顆粒、氣泡、湍流或雜質(zhì)的影響。
易于維護
無漂移。無需重新校準。無需機械調(diào)整。
技術數(shù)據(jù)
折射率范圍 1.3200...1.5300
準確度 ± 0.1%
響應時間 1s
工藝溫度 -20°C (-4°F)...85°C (185°F)
環(huán)境溫度:-20°C (-4°F)...45°C (113°F)
保護等級 IP67
重量 1.2 kg
消耗功率 1W
vaisala半導體折光儀 PR-33-S探頭
聯(lián)系電話:18510339394
聯(lián)系郵箱:sales23@handelsen.cn
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